 |
 |
GEW на выставке Labelexpo 2009
Новая конфигурация рефлектора для УФ-ламп в модели VCP разработана для максимального отсечения ИК-энергии и оптимизации потока УФ-лучей. Кроме этого на стенде будет представлена новая система Интернет мониторинга УФ-систем GEW, система УФ-полимеризация в инертной среде, предназначенная для печати упаковки. А также весь ряд сопутствующей продукции: УФ-тестеры, УФ-лампы, дихроические рефлектора, новые панели управления и электронные балласты. На стенде будут работать представители компании UV-service - партнера компании GEW на территории России и стран СНГ. Будем рады Вас видеть Hall 6, Stand 6H70
|
